[发明专利]成像设备、聚焦控制方法以及聚焦判定方法在审
| 申请号： | 201880020431.0 | 申请日： | 2018-02-07 |
| 公开（公告）号： | CN110446962A | 公开（公告）日： | 2019-11-12 |
| 发明（设计）人： | 明壁祐基;南智之 | 申请（专利权）人： | 索尼公司 |
| 主分类号： | G02B7/28 | 分类号： | G02B7/28;G02B7/34;G02B7/36;G03B13/36;H04N5/232 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 王玉玺 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 根据本发明，图像捕获单元31从包括图像输出像素和相位差检测像素的图像捕获元件配置。控制单元50执行基于在预定时段内使用相位差检测像素获得的图像平面相位差信息的聚焦控制，生成指示聚焦状态变化是否是单调的聚焦状态变化信息，并且当聚焦状态变化信息指示聚焦状态变化是单调的情况下，继续基于图像平面相位差信息的聚焦控制。此外，在聚焦状态变化不是单调的情况下，控制单元通过将聚焦状态置于低对比度状态来从图像平面相位差自动聚焦操作切换对比度类型自动聚焦操作。可以执行高速和高质量的自动聚焦操作。 | ||
| 搜索关键词： | 聚焦状态变化 自动聚焦操作 聚焦控制 图像平面 相位差检测 相位差信息 单调 像素 图像捕获单元 图像捕获元件 图像输出像素 成像设备 低对比度 聚焦状态 信息指示 预定时段 相位差 判定 聚焦 配置 | ||
【主权项】：
1.一种成像设备，包括：成像元件，包括图像输出像素和相位差检测像素；以及控制单元，被配置为基于在执行基于使用所述相位差检测像素在预定时段内获得的图像平面相位差信息的聚焦控制期间获得的聚焦状态信息，生成指示聚焦状态的变化是否是单调变化的聚焦状态变化信息，并且在聚焦状态变化信息指示聚焦状态的变化是单调变化的情况下，继续基于图像平面相位差信息的图像平面相位差聚焦控制。
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