[发明专利]全息图记录介质、光学元件以及全息记录方法有效
申请号: | 201880021506.7 | 申请日: | 2018-12-07 |
公开(公告)号: | CN110462734B | 公开(公告)日: | 2021-09-07 |
发明(设计)人: | 张锡勋;李玹燮;金宪;权洗铉;张影来 | 申请(专利权)人: | 株式会社LG化学 |
主分类号: | G11B7/24044 | 分类号: | G11B7/24044;G11B7/08;G11B7/245;G03F7/00;C08L51/08;C08L75/04;C08L83/12 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 李静;张云志 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本公开涉及一种主弛豫温度(Tr)为0℃以下的全息图记录介质,其中,Tr是在动态力学分析中在‑80℃至30℃的范围内相位角相对于温度的变化率最大的点;本公开还涉及一种包括所述全息图记录介质的光学元件;以及一种全息记录方法,该方法包括使用相干激光使所述全息图记录介质中含有的光反应性单体选择性地聚合的步骤。 | ||
搜索关键词: | 全息图 记录 介质 光学 元件 以及 全息 方法 | ||
【主权项】:
1.一种全息图记录介质,其具有0℃以下的主弛豫温度Tr,其中,所述主弛豫温度是在动态力学分析中在-80℃至30℃的范围内相位角相对于温度的变化率最大的点。/n
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