[发明专利]光学系统及方法有效
| 申请号： | 201880023059.9 | 申请日： | 2018-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN110476125B | 公开（公告）日： | 2022-10-21 |
| 发明（设计）人： | D.于尔根斯;K.希尔德;B.盖 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B26/08 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光刻机(100A、100B)的光学系统(200)，该光学系统(200)包括主反射镜元件(206)、操纵器装置(400)、光学有效表面(306、306′)和致动器矩阵(308)，该操纵器装置(400)用于定位和/或取向主反射镜元件(206)，该光学有效表面(306、306′)用于反射辐射(108A、108B)，以及该致动器矩阵(308)定位在主反射镜元件(206)和光学有效表面(306、306′)之间并配置为使光学有效表面(306、306′)变形以便影响其反射性质，间隙(316)配备在致动器矩阵(308)与主反射镜元件(206)的前侧(214)之间，以便使致动器矩阵(308)与所述主反射镜元件(206)间隔开。 | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻设备(100A、100B)的光学系统(200)，包括：/n反射镜主体(206)，/n操纵器装置(400)，用于定位和/或取向所述反射镜主体(206)，/n光学有效表面(306、306′)，用于反射辐射(108A、108B)，以及/n致动器矩阵(308)，布置在所述反射镜主体(206)和所述光学有效表面(306、306′)之间，并配置为使所述光学有效表面(306、306′)变形以便影响其反射性质，其中使所述致动器矩阵(308)与所述反射镜主体(206)间隔开的间隙(316)配备在所述致动器矩阵(308)与所述反射镜主体(206)的前侧(214)之间。/n
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