[发明专利]利用种子层的选择性蚀刻的电路板的制造方法有效

专利信息
申请号: 201880023882.X 申请日: 2018-02-20
公开(公告)号: CN110494936B 公开(公告)日: 2021-10-08
发明(设计)人: 郑光春;文炳雄;金修汉;金在麟 申请(专利权)人: 印可得株式会社
主分类号: H01B13/00 分类号: H01B13/00;H01B1/16;H01B3/30
代理公司: 北京瀚仁知识产权代理事务所(普通合伙) 11482 代理人: 宋宝库
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种包括电极层的转印膜的制造方法。根据本发明的包括电极层的转印膜的制造方法,其特征在于包括:在载体部件上利用导电性物质形成电极层的电极层形成步骤;在绝缘树脂层的至少一面上分别配设所述载体部件的配设步骤;加压所述载体部件和所述绝缘树脂层使之接合的接合步骤;及去除载体部件以在所述绝缘树脂层上转印电极层的转印步骤。
搜索关键词: 利用 种子 选择性 蚀刻 电路板 制造 方法
【主权项】:
1.一种包括种子层的转印膜的制造方法,其特征在于,包括:/n种子层形成步骤,用第一导电性物质在载体部件上形成种子层;/n配设步骤,在绝缘树脂层的至少一面上配设所述种子层;/n接合步骤,向厚度方向加压并接合所述种子层和所述绝缘树脂层;及/n转印步骤,去除所述载体部件,以在所述绝缘树脂层上转印种子层。/n
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