[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法在审
| 申请号： | 201880024097.6 | 申请日： | 2018-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN110494806A | 公开（公告）日： | 2019-11-22 |
| 发明（设计）人： | 畠山直也;米久田康智;吉村务;东耕平;西田阳一 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;C08F12/12;C08F22/02;C08F22/10;G03F7/004;G03F7/20 |
| 代理公司： | 11021 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 曹阳<国际申请>=PCT/JP2018/ |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种作为掩模而能够适用于蚀刻时，能够形成耐龟裂性及耐蚀刻性优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物为含有树脂且固体成分浓度为10质量％以上的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，上述树脂包含：以制成均聚物时的玻璃化转变温度为50℃以下的单体为来源的重复单元A；及具有酸分解性基的重复单元B，上述重复单元B的含量相对于树脂中的所有重复单元为20摩尔％以下，且上述树脂所具有的重复单元中的任一至少1种为具有芳香族环的重复单元。 | ||
| 搜索关键词： | 树脂 感放射线性树脂组合物 感光 射线 蚀刻 玻璃化转变 电子器件 芳香族环 抗蚀剂膜 耐龟裂性 耐蚀刻性 酸分解性 图案形成 均聚物 掩模 图案 制造 | ||
【主权项】：
1.一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其含有树脂且固体成分浓度为10质量％以上，该感光化射线性或感放射线性树脂组合物中，/n所述树脂包含：/n以制成均聚物时的玻璃化转变温度为50℃以下的单体为来源的重复单元即重复单元A；及/n具有酸分解性基的重复单元即重复单元B，/n所述重复单元B的含量相对于所述树脂中的所有重复单元为20摩尔％以下，/n所述树脂所具有的重复单元中的至少1种为具有芳香族环的重复单元。/n
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