[发明专利]用于立式辊磨机的研磨稳定添加剂在审
申请号: | 201880024660.X | 申请日: | 2018-01-05 |
公开(公告)号: | CN110475759A | 公开(公告)日: | 2019-11-19 |
发明(设计)人: | D.A.西尔瓦;J.H.张;D.F.迈尔斯;全炳和;E.罗查;赖伟福;L.J.布泽尔;J.托马斯;J.德特利斯 | 申请(专利权)人: | GCP应用技术有限公司 |
主分类号: | C04B24/12 | 分类号: | C04B24/12;C04B28/04;C04B40/00;C04B20/02;C09C3/04;C09C3/08;C09C1/02 |
代理公司: | 72001 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 王琳;杨戬<国际申请>=PCT/US20 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: |
一种在立式辊磨机(VRM)中研磨固体的方法,其包括在研磨稳定添加剂存在下研磨至少一种固体,其中所述研磨稳定添加剂包含具有下列结构式(I)的烷醇氨基酸化合物或其二钠或二钾盐: |
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搜索关键词: | 研磨 稳定添加剂 氨基酸化合物 立式辊磨机 钾盐 烷醇 | ||
【主权项】:
1.一种在立式辊磨机(VRM)中研磨固体的方法,其包括:/n在研磨稳定添加剂存在下研磨至少一种固体,其中所述研磨稳定添加剂包含具有下列结构式的烷醇氨基酸化合物或其二钠或二钾盐:/n /n其中:/nR1是(C1-C4)烷基-OH;且/nR2和R3各自独立地为(C0-C3)烷基-COOR*,其中R*是H、Na+、K+或½Ca++。/n
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