[发明专利]用于物体的表面处理的装置在审
| 申请号： | 201880024669.0 | 申请日： | 2018-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN110637257A | 公开（公告）日： | 2019-12-31 |
| 发明（设计）人： | O.施塔茨曼;T.席廷格;U.雅恩-夸德;P.施密特 | 申请（专利权）人： | IST梅茨有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;B08B7/00;H01L21/67 |
| 代理公司： | 72001 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 郭帆扬;陈浩然 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于物体的表面处理的装置，其带有容纳待处理的物体(12)的处理腔(14)、向物体(12)对准的用于UV辐射的辐射源(16)和用于以工作流体加载处理腔(14)的设备(24)，其中，工作流体包含至少一个惰性成分和至少一个光化学活性的活性成分。根据本发明，提出一种构造用于检测在位于处理腔(14)中的工作流体处和/或在物体(12)处的测量数据的测量单元(20)，其中，设置有与测量单元(20)相连接的控制单元(18)用于根据所检测的测量数据影响工作流体的组成。 | ||
| 搜索关键词： | 工作流体 处理腔 测量单元 测量数据 光化学活性 辐射源 检测 加载 对准 容纳 | ||
【主权项】：
1.一种用于物体的表面处理的装置，尤其用于清洁半导体基质或玻璃基质，其带有：/na) 至少部分地容纳待处理的所述物体(12)的处理腔(14)，/nb) 向在所述处理腔(14)中的所述物体(12)对准的用于UV辐射的辐射源(16)以及/nc) 用于以工作流体加载所述处理腔(14)的设备(24)，/nd) 其中，所述工作流体包含至少一个惰性成分和至少一个光化学活性的活性成分，/n其特征在于，/ne) 构造用于检测在位于所述处理腔(14)中的所述工作流体处和/或在所述物体(12)处的测量数据的测量单元(20)，以及/nf) 与所述测量单元(20)相连接的控制单元(18)用于根据所检测的所述测量数据影响所述工作流体的组成。/n
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