[发明专利]处理腔导向装置、处理腔和用于将基体支架引导至处理位置处的方法在审

专利信息
申请号: 201880025293.5 申请日: 2018-03-19
公开(公告)号: CN110520557A 公开(公告)日: 2019-11-29
发明(设计)人: S·瑞伯;K·席林格;B·瑞卡特 申请(专利权)人: 奈克斯沃夫有限公司
主分类号: C30B25/02 分类号: C30B25/02;C23C16/458;C23C16/54;H01L21/677;C23C14/56;C23C16/24;C30B25/12;C23C16/44
代理公司: 11447 北京英创嘉友知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人: 桑传标<国际申请>=PCT/EP2018
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及一种处理腔导向装置,所述处理腔导向装置构造成用于沿导向方向直线引导能在所述处理腔导向装置中移动的基体支架,以利用所述基体支架向处理位置处的移动,使得处理腔导向装置和基体支架至少构成处理腔导向装置的局部的边界。本发明的特征在于,所述处理腔导向装置具有用于基体支架的滚动体支承结构和至少一个密封面,所述密封面平行于导向方向延伸并且构造和设置成使得,当设置在处理腔导向装置中的基体支架处于处理位置处时,密封面与基体支架隔开小于1mm的间距。本发明还涉及一种处理腔和一种用于将基体支架引导到处理位置处的方法。
搜索关键词: 处理腔 导向装置 基体支架 处理位置 密封面 滚动体支承 方向延伸 移动 隔开 平行
【主权项】:
1.处理腔导向装置(1、1a、1b、1c),构造成用于沿导向方向直线引导能在所述处理腔导向装置中移动的基体支架,以利用所述基体支架向处理位置处的移动,使得通过处理腔导向装置(1、1a、1b、1c)和基体支架(2、2a)至少构成处理腔导向装置(1、1a、1b、1c)的局部的边界,其特征在于,具有至少一个密封面(4、4a),所述密封面平行于所述导向方向延伸并且构造和设置成使得,当设置在所述处理腔导向装置(1、1a、1b、1c)中的所述基体支架(2、2a)处于所述处理位置处时,所述密封面(4、4a)与所述基体支架(2、2a)隔开小于1mm的间距。/n
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