[发明专利]光调制装置有效
| 申请号： | 201880027094.8 | 申请日： | 2018-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN110546553B | 公开（公告）日： | 2022-07-05 |
| 发明（设计）人： | 林恩政;金南焄;柳正善;金真弘;李玹准;金旼俊;洪敬奇;文寅周;吴东炫 | 申请（专利权）人： | 株式会社LG化学 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13;G02B27/01;G02F1/01;G02F1/1337;B32B27/06;B32B27/36;B32B7/03;B32B7/035;B32B27/18;B32B33/00;B32B7/022 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 高世豪;梁笑 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本申请涉及光调制装置和眼部佩戴物。本申请通过将同样地光学上各向异性且机械上各向异性的聚合物膜应用于基底而可以提供具有优异的机械特性和优异的光学特性二者的光调制装置。 | ||
| 搜索关键词： | 调制 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光调制装置，包括光调制膜层，所述光调制膜层具有彼此相对设置的第一聚合物膜基底和第二聚合物膜基底以及在所述第一聚合物膜基底与所述第二聚合物膜基底之间的光调制层，/n其中所述第一聚合物膜基底和所述第二聚合物膜基底各自的对波长为550nm的光的面内延迟为4,000nm或更大，/n所述第一聚合物膜基底和所述第二聚合物膜基底各自的在第一方向上的伸长率(E1)与在垂直于所述第一方向的第二方向上的伸长率(E2)的比率(E1/E2)为3或更大，以及/n所述第一聚合物膜基底和所述第二聚合物膜基底被设置成使得由所述第一聚合物膜基底的所述第一方向与所述第二聚合物膜基底的所述第一方向形成的角度在0度至10度的范围内。/n
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