[发明专利]反射系统、极紫外线曝光工具、光刻曝光工具及光学系统有效
| 申请号： | 201880027134.9 | 申请日： | 2018-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN110892328B | 公开（公告）日： | 2022-04-29 |
| 发明（设计）人： | 丹尼尔·基恩·史密斯;大卫·M·威尔森 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B17/06;G21K1/06 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 胡林岭 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 公开一种反射系统、极紫外线曝光工具、光刻曝光工具及光学系统。所述反射系统具有参考轴且包括反射图案源(承载实质上一维图案)以及仅有三个光学组件的组合，所述仅有三个光学组件依序设置以将入射于第一光学组件上的极紫外线辐射转移至所述图案源上。所述组合相对于所述图案源设置成固定的空间及光学关系，且表示一维极紫外线曝光工具的照明单元(IU)，所述一维极紫外线曝光工具另外包括投影光学器件子系统，所述投影光学器件子系统被配置成在图像平面上利用仅有两束辐射形成所述图案源的光学图像。所述仅有两束辐射在所述图案源处起源于被转移至所述图案源上的所述极紫外线辐射。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 系统 紫外线 曝光 工具 光刻 光学系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社尼康，未经株式会社尼康许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201880027134.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：用于增加材料中的氢捕集空位的方法
- 下一篇：用于液体计量和分配的柔性球阀
