[发明专利]光调制装置有效

专利信息
申请号: 201880027823.X 申请日: 2018-04-30
公开(公告)号: CN110573945B 公开(公告)日: 2022-04-05
发明(设计)人: 李玹准;林恩政;柳正善;金旼俊;吴东炫;金真弘 申请(专利权)人: 株式会社LG化学
主分类号: G02F1/01 分类号: G02F1/01;G02F1/1337;B32B27/06;G02F1/13363;B32B7/00;G02B27/01;G02F1/1347;G02F1/137;G02F1/13357;B32B7/035;G02F1/1343;G02F1/1333;G02F1/139;G0
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 梁笑;尚光远
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本申请涉及光调制装置及其用途。所述光调制装置包括有源液晶膜层,所述有源液晶膜层具有布置成彼此面对的第一聚合物膜基底和第二聚合物膜基底;和位于第一聚合物膜基底和第二聚合物膜基底之间并且包含液晶主体和二色性染料客体的有源液晶层。本申请通过将也具有光学各向异性和机械各向异性的聚合物膜用作基底而可以提供具有优异的光学特性和机械特性二者的光调制装置。
搜索关键词: 调制 装置
【主权项】:
1.一种光调制装置,包括有源液晶膜层,所述有源液晶膜层具有彼此相对设置的第一聚合物膜基底和第二聚合物膜基底,和存在于所述聚合物膜基底之间并且包含液晶主体和二色性染料客体的有源液晶层,/n其中所述有源液晶层能够在水平取向状态与垂直取向状态之间转换,/n所述聚合物膜基底各自对波长为550nm的光的面内延迟为4,000nm或更大,/n所述聚合物膜基底各自的在第一方向上的伸长率(E1)与在垂直于所述第一方向的第二方向上的伸长率(E2)的比率(E1/E2)为3或更大,以及/n所述第一聚合物膜基底和所述第二聚合物膜基底被设置成使得由所述第一聚合物膜基底的第一方向与所述第二聚合物膜基底的第一方向形成的角度在0度至10度的范围内。/n
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