[发明专利]日照遮蔽构件在审
| 申请号： | 201880031024.X | 申请日： | 2018-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN110650841A | 公开（公告）日： | 2020-01-03 |
| 发明（设计）人： | 堀江裕树;加藤和广 | 申请（专利权）人： | 中央硝子株式会社 |
| 主分类号： | B32B15/01 | 分类号： | B32B15/01;B32B9/00;C03C17/36;C03C27/12;E06B5/00;G02B1/115 |
| 代理公司： | 11277 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的日照遮蔽构件的特征在于，其在透明基材上具有低辐射膜，所述低辐射膜依次层叠有第1电介质膜、第1金属膜、第2电介质膜、第2金属膜、第3电介质膜、第3金属膜和第4电介质膜，该第1电介质膜含有：位于该透明基材的正上方且包含硅和氮的电介质层A、位于该电介质层A上且包含钛和氧的电介质层B，该电介质层A的光学膜厚为12～86nm，该第1电介质膜、该第2电介质膜和第3电介质膜在最上层具有结晶性电介质层，该结晶性电介质层的光学膜厚为5～54nm，该第1金属膜、该第2金属膜和该第3金属膜为在正下方具有该结晶性电介质层的Ag膜。 | ||
| 搜索关键词： | 电介质膜 电介质层 金属膜 结晶性 低辐射膜 光学膜厚 透明基材 依次层叠 遮蔽构件 最上层 日照 | ||
【主权项】：
1.一种日照遮蔽构件，其在透明基材上具有低辐射膜，所述低辐射膜依次层叠有第1电介质膜、第1金属膜、第2电介质膜、第2金属膜、第3电介质膜、第3金属膜和第4电介质膜，其特征在于，/n该第1电介质膜含有：位于该透明基材的正上方且包含硅和氮的电介质层A、位于该电介质层A上且包含钛和氧的电介质层B，该电介质层A的光学膜厚为12～86nm，/n该第1电介质膜、该第2电介质膜和第3电介质膜在最上层具有结晶性电介质层，/n该结晶性电介质层的光学膜厚为5～54nm，/n该第1金属膜、该第2金属膜和该第3金属膜为在正下方具有该结晶性电介质层的Ag膜。/n
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