[发明专利]抗反射构件在审
| 申请号： | 201880031968.7 | 申请日： | 2018-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN110622045A | 公开（公告）日： | 2019-12-27 |
| 发明（设计）人： | 高野香织;田中大直;关隆史;后藤正直 | 申请（专利权）人： | JXTG能源株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/118 | 分类号： | G02B1/118 |
| 代理公司： | 11127 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 张德斌;闫加贺 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的抗反射构件100具有由凸部60及凹部70划分的凹凸表面80，且上述凹凸表面80的观察图像的傅立叶变换图像，呈现以波数的绝对值为0μm | ||
| 搜索关键词： | 凸部 凹凸表面 抗反射构件 凹部 傅立叶变换 抗反射效果 耐磨性 原点 大致中心 方向垂直 方向延伸 观察图像 凹凸的 圆环状 变小 波数 下沿 俯视 花样 图像 延伸 | ||
【主权项】：
1.一种抗反射构件，其具有由凸部及凹部划分的凹凸表面，且/n通过对上述凹凸表面的观察图像实施二维高速傅立叶变换处理所得的傅立叶变换图像，呈现以波数的绝对值为0μm
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