[发明专利]用于制造器件的量测传感器、光刻设备和方法在审
| 申请号： | 201880032461.3 | 申请日： | 2018-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN110637258A | 公开（公告）日： | 2019-12-31 |
| 发明（设计）人： | 塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩;J·A·G·阿克曼斯;S·R·胡伊斯曼;T·M·T·A·M·埃拉扎里 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 11021 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了一种量测传感器设备，其包括：照射系统，其能够操作以用照射辐射照射衬底上的量测标记；光学收集系统，其配置成在由所述量测标记散射所述照射辐射之后收集散射辐射；和依赖于波长的空间滤光器，其用于在空间上过滤所述散射辐射，所述依赖于波长的空间滤光器具有依赖于所述散射辐射的波长的空间轮廓。所述依赖于波长的空间滤光器可以包括二向色滤光器和至少一个第二滤光器，所述二向色滤光器能够可操作以实质上透射第一波长范围的散射辐射且实质上阻挡第二波长范围内的散射辐射，所述第二滤光器能够操作以实质上阻挡至少在第一波长范围和第二波长范围内的散射辐射。 | ||
| 搜索关键词： | 波长 散射辐射 空间滤光器 量测 二向色滤光器 照射 滤光器 光学收集系统 传感器设备 阻挡 空间轮廓 照射系统 可操作 辐射 散射 透射 衬底 过滤 配置 | ||
【主权项】：
1.一种量测传感器设备，包括：/n照射系统，该照射系统能够操作以用照射辐射照射衬底上的量测标记；/n光学收集系统，该光学收集系统配置成在由所述量测标记散射所述照射辐射之后收集散射辐射；和/n依赖于波长的空间滤光器，该依赖于波长的空间滤光器用于在空间上过滤所述散射辐射，所述依赖于波长的空间滤光器具有依赖于所述散射辐射的波长的空间轮廓。/n
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