[发明专利]用于检流计扫描仪校准的设备、系统和方法有效
| 申请号： | 201880033132.0 | 申请日： | 2018-04-04 |
| 公开（公告）号： | CN110651218B | 公开（公告）日： | 2022-03-01 |
| 发明（设计）人： | J·斯莫;R·J·马丁森 | 申请（专利权）人： | 恩耐公司 |
| 主分类号： | G02B27/32 | 分类号： | G02B27/32;B22F3/105;G01B11/00;G01B11/25;B23Q17/24 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 刘文灿 |
| 地址： | 美国华*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种设备包括：光源，其被定位成产生基准源光束；以及光学基准图案生成器，其被定位成用基准源光束在激光处理目标上产生至少一个瞬态光学基准，该激光处理目标位于激光扫描仪的视场中，所述激光扫描仪被定位成在激光处理目标上扫描激光处理光束，使得激光处理光束在激光处理目标上的定位变得相对于至少一个瞬态光学基准可调整。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 检流计 扫描仪 校准 设备 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种设备，包括：/n光源，其被定位成产生基准源光束；以及/n光学基准图案生成器，其被定位成用所述基准源光束在激光处理目标上产生至少一个瞬态光学基准，所述激光处理目标位于激光扫描仪的视场中，所述激光扫描仪被定位成在所述激光处理目标上扫描激光处理光束，使得所述激光处理光束在所述激光处理目标上的定位变得相对于所述至少一个瞬态光学基准能够调整。/n
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