[发明专利]下层膜形成用材料、抗蚀剂下层膜、抗蚀剂下层膜的制造方法及层叠体在审
| 申请号： | 201880036679.6 | 申请日： | 2018-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN110709774A | 公开（公告）日： | 2020-01-17 |
| 发明（设计）人： | 井上浩二;小田隆志;川岛启介 | 申请（专利权）人： | 三井化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;B32B27/00;C08G61/08 |
| 代理公司： | 11243 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人： | 陈彦;李宏轩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的下层膜形成用材料为用于形成多层抗蚀剂工艺所使用的抗蚀剂下层膜的下层膜形成用材料，其包含具有下述通式(1)所示的重复结构单元[A]和下述通式(2)所示的重复结构单元[B]的环状烯烃聚合物，上述环状烯烃聚合物中的上述结构单元[A]与上述结构单元[B]的摩尔比[A]/[B]为5/95以上95/5以下。 | ||
| 搜索关键词： | 环状烯烃聚合物 重复结构单元 下层膜 抗蚀剂下层膜 多层抗蚀剂 摩尔比 | ||
【主权项】：
1.一种下层膜形成用材料，其用于形成多层抗蚀剂工艺所使用的抗蚀剂下层膜，/n包含：具有下述通式(1)所示的重复结构单元[A]和下述通式(2)所示的重复结构单元[B]的环状烯烃聚合物，/n所述环状烯烃聚合物中的所述结构单元[A]与所述结构单元[B]的摩尔比[A]/[B]为5/95以上95/5以下，/n[化1]/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三井化学株式会社，未经三井化学株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201880036679.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
