[发明专利]导电膜的制造方法、导电膜和金属纳米线墨有效
| 申请号： | 201880038335.9 | 申请日： | 2018-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN110720129B | 公开（公告）日： | 2022-06-03 |
| 发明（设计）人： | 山木繁 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | H01B13/00 | 分类号： | H01B13/00;B05D5/12;B05D7/04;B05D7/24;B32B7/023;B32B27/18;H01B1/00;H01B1/22;H01B5/14;H05K1/09 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 王潇悦;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的课题是提供面内的表面电阻值波动小的导电膜，其抑制了金属纳米线的使用量，表面电阻值在1000～10000Ω/□的范围。还提供生产率优异的导电膜的合适制造方法和用于该制造方法的金属纳米线墨。解决手段是一种导电膜，导电层的表面电阻值为1000～10000Ω/□，并且面内的表面电阻值波动为35％以下，所述导电膜由以下制造方法得到，所述制造方法包括在高分子膜的至少一面涂布金属纳米线墨并使其干燥的工序，金属纳米线墨包含金属纳米线(A)、粘合剂树脂(B)和溶剂(C)，金属纳米线(A)的平均直径为1～100nm，长轴长度的平均值为1～100μm，并且长宽比的平均值为100～2000，粘合剂树脂(B)包含乙基纤维素和羟丙基纤维素中的至少一者，溶剂(C)包含二乙二醇单乙醚，金属纳米线(A)的含有率为0.005～0.05质量％。 | ||
| 搜索关键词： | 导电 制造 方法 金属 纳米 | ||
【主权项】：
1.一种导电膜的制造方法，包括在高分子膜的至少一面涂布金属纳米线墨并使其干燥的工序，所述金属纳米线墨包含金属纳米线(A)、粘合剂树脂(B)和溶剂(C)，所述金属纳米线(A)的平均直径为1～100nm，长轴的长度的平均值为1～100μm，并且长宽比的平均值为100～2000，所述粘合剂树脂(B)包含乙基纤维素和羟丙基纤维素中的至少一者，所述溶剂(C)包含二乙二醇单乙醚，所述金属纳米线(A)的含有率为0.005～0.05质量％。/n
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