[发明专利]形成含铌膜的组合物和含铌膜的气相沉积有效
申请号: | 201880040099.4 | 申请日: | 2018-06-05 |
公开(公告)号: | CN110785513B | 公开(公告)日: | 2021-10-08 |
发明(设计)人: | 克莱蒙特·兰斯洛特-马特拉斯;李柱昊;卢沅泰 | 申请(专利权)人: | 乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司 |
主分类号: | C07F9/00 | 分类号: | C07F9/00 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 徐国栋;林柏楠 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 披露了形成含铌膜的组合物、合成其的方法、以及使用该形成含铌膜的组合物通过原子层沉积工艺在一个或多个基板上形成含铌膜的方法。 | ||
搜索关键词: | 形成 含铌膜 组合 沉积 | ||
【主权项】:
1.一种形成含铌膜的组合物,其包含具有下式的前体:/n
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