[发明专利]确定边缘粗糙度参数有效
| 申请号： | 201880041728.5 | 申请日： | 2018-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN110799903B | 公开（公告）日： | 2021-11-16 |
| 发明（设计）人： | M·J·J·杰克;理查德·金塔尼利亚;A·J·登鲍埃夫;M·库比斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王益 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种确定边缘粗糙度参数的方法，包括以下步骤：(1010)控制辐射系统以在用于接收衬底的测量位置处提供辐射斑；(1020)接收来自传感器的测量信号，所述传感器用于当量测目标被所述辐射斑照射时测量在所述测量位置处被所述量测目标衍射的禁用衍射阶(诸如第二阶)的强度，所述量测目标包括重复图案，所述重复图案被配置成通过(约0.5的)线宽/节距比率的配置来控制导致衍射阶的禁用的相消干涉的量，所述传感器被配置为基于所测量的强度来提供所述测量信号；和(1040)基于所述禁用衍射阶的所测量的强度确定边缘粗糙度参数。 | ||
| 搜索关键词： | 确定 边缘 粗糙 参数 | ||
【主权项】：
1.一种量测设备，包括：/n-测量位置，用于接收衬底；/n-辐射系统，用于在所述测量位置处提供辐射斑；和/n-传感器，用于当量测目标被辐射斑照射时测量在所述测量位置处被所述量测目标衍射的禁用衍射阶的强度，所述量测目标包括重复图案，所述重复图案被配置成控制导致衍射阶的禁用的相消干涉的量，所述传感器被配置为基于所测量的强度来提供测量信号，/n-控制器，能够操作以：/n-接收所述测量信号；和/n-基于所述禁用衍射阶的所测量的强度确定边缘粗糙度参数。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201880041728.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
