[发明专利]窗口的硬度类似于抛光层的抛光垫有效
| 申请号： | 201880042418.5 | 申请日： | 2018-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN110785259B | 公开（公告）日： | 2022-03-04 |
| 发明（设计）人： | 尹晟勋;柳俊城;徐章源;安宰仁 | 申请（专利权）人： | SKC索密思株式会社 |
| 主分类号： | B24B37/20 | 分类号： | B24B37/20;B24B37/24;H01L21/306 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 薛琦 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 实施例涉及抛光垫，其包括硬度与其抛光层类似的窗口。因为抛光垫包括硬度和抛光率与其抛光层类似的窗口，所以它能产生防止CMP工艺期间划伤晶片的效果。另外，抛光垫的抛光层和窗口相对于温度具有类似的硬度改变率，因此它们可保持类似的硬度，而与CMP工艺期间温度的改变无关。 | ||
| 搜索关键词： | 窗口 硬度 类似于 抛光 | ||
【主权项】：
1.一种抛光垫，包括：/n抛光层，具有贯穿孔；以及/n窗口，插入所述贯穿孔中，/n其中所述窗口和所述抛光层之间的湿硬度差为0.1邵氏D硬度至12邵氏D硬度，并且所述湿硬度是在水中浸渍30分钟测得的表面硬度。/n
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