[发明专利]对晶片保持设备上的电镀的远程检测在审
| 申请号： | 201880043013.3 | 申请日： | 2018-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN110799833A | 公开（公告）日： | 2020-02-14 |
| 发明（设计）人： | 拉詹·阿罗拉;杰瑞德·赫尔;杰森·丹尼尔·马尔切蒂;史蒂文·T·迈耶;詹姆斯·R·齐布里达 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | G01N21/95 | 分类号： | G01N21/95;C25D21/12;C25D17/00;C25D17/06 |
| 代理公司： | 31263 上海胜康律师事务所 | 代理人： | 樊英如;邱晓敏 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本文描述了用于检测在电镀设备的衬底保持器上是否存在不需要的金属沉积物的方法和设备。在多种实施方案中，镀覆传感器用于检测不需要的金属沉积物。镀覆传感器可以安装在离其测量区域(例如，传感器目标区域)相对较远的位置。例如，镀覆传感器可以在电镀设备的一侧上(在某些情况下安装在防滴罩上)，并且传感器目标区域可以在电镀设备的相对侧上。以这种方式，镀覆传感器可以跨越电镀设备测量。该放置为镀覆传感器提供了相对较深的聚焦深度，并在镀覆传感器和电镀化学物质之间提供了一定的物理分离。这两个因素都会导致更可靠的检测结果。 | ||
| 搜索关键词： | 传感器 镀覆 电镀设备 传感器目标 金属沉积物 测量 衬底保持器 方法和设备 化学物质 检测结果 物理分离 电镀 检测 防滴 聚焦 | ||
【主权项】：
1.一种电镀设备，其包括：/n电解液容器，其被配置为在电镀期间保持电解液；/n衬底保持器，其被配置为在电镀期间支撑衬底，其中，所述衬底保持器呈环形并在其外围支撑所述衬底，所述衬底保持器包括传感器目标区域；以及/n镀覆传感器，其包括瞄准所述传感器目标区域的光源，其中所述镀覆传感器区分(i)所述传感器目标区域上的存在不需要的金属沉积物的区域和(ii)所述传感器目标区域上的不存在不需要的金属沉积物的区域。/n
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