[发明专利]衬底处理方法和设备有效
| 申请号： | 201880045558.8 | 申请日： | 2018-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN110870040B | 公开（公告）日： | 2022-05-03 |
| 发明（设计）人： | 吴玉伦;J·库德拉;卡尔·A·索伦森;苏希尔·安瓦尔 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H03H7/38 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了一种处理衬底上的材料层的方法。所述方法包括：通过匹配网络将RF功率从RF电源输送到电容耦合等离子体腔室的喷头；点燃所述电容耦合等离子体腔室内的等离子体；相对于所述RF功率的基本频率的相位测量所述RF功率的一个或多个谐波信号的一个或多个相位角；以及基于一个或多个相位角测量来相对于所述RF功率的所述基本频率的所述相位调整所述RF功率的至少一个谐波信号的至少一个相位角。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 处理 方法 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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