[发明专利]溅射靶、氧化物半导体膜的成膜方法以及背板有效
申请号: | 201880047311.X | 申请日: | 2018-08-01 |
公开(公告)号: | CN110892089B | 公开(公告)日: | 2022-05-24 |
发明(设计)人: | 海上晓 | 申请(专利权)人: | 出光兴产株式会社 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C04B35/453;H01L21/363 |
代理公司: | 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 | 代理人: | 陈亦欧;毛立群 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
本发明的溅射靶(1)中,板状的氧化物烧结体(3)具有沿Y方向排列的多个区域,多个区域具有:端部区域(7A、7B),是包括Y方向上的端部的区域;内侧区域(9A、9B),是从端部朝向Y方向计数处于内侧第2个的区域,在将端部区域(7A、7B)的板厚设为t |
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搜索关键词: | 溅射 氧化物 半导体 方法 以及 背板 | ||
【主权项】:
暂无信息
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