[发明专利]包含聚碳硅烷的碳化硅质膜形成组合物、以及使用了其的碳化硅质膜的制造方法有效
| 申请号： | 201880051100.3 | 申请日： | 2018-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN111051389B | 公开（公告）日： | 2022-06-14 |
| 发明（设计）人： | 冈村聪也 | 申请（专利权）人： | 默克专利有限公司 |
| 主分类号： | C08G77/60 | 分类号： | C08G77/60;C09D183/16;C08G77/32 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 | 代理人： | 刘卓然 |
| 地址： | 德国达*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
[问题]本发明提供一种包含聚碳硅烷的组合物，其埋入性优异，可在更低温进行成膜，且使制造出的膜的电特性优异。[解决方案]一种碳化硅质膜形成组合物，其包含聚碳硅烷以及溶剂，前述聚碳硅烷的 |
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| 搜索关键词： | 包含 硅烷 碳化硅 质膜 形成 组合 以及 使用 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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