[发明专利]基板底座在审
| 申请号： | 201880053235.3 | 申请日： | 2018-08-15 |
| 公开（公告）号： | CN111066119A | 公开（公告）日： | 2020-04-24 |
| 发明（设计）人： | 雷纳尔多·科普兹科;格兰特·萨莱斯·维拉维琴西奥;易卜拉欣·甘巴里 | 申请（专利权）人： | 赛姆布兰特有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/687 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 李艳;臧建明 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于等离子体处理装置的基板底座，包括：框架；框架内的孔，其被构造成容纳插件，插件被构造成支撑基板，所述基板用于通过供等离子体处理装置处理；可释放的固定机构，其被构造成将插件可释放地固定在所述孔内，使得可以更换所述插件。 | ||
| 搜索关键词： | 底座 | ||
【主权项】：
暂无信息
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