[发明专利]具有双嵌入式电极的基板支撑件有效
| 申请号： | 201880053387.3 | 申请日： | 2018-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN110998783B | 公开（公告）日： | 2022-11-22 |
| 发明（设计）人： | 赵在龙;P·A·克劳斯 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 侯颖媖;张鑫 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 在本文中描述的实施例总体而言涉及等离子体辅助处理腔室或等离子体增强处理腔室。更具体地，在本文中的实施例涉及被配置为向基板提供脉冲DC电压的静电吸盘(ESC)基板支撑件，和在等离子体辅助半导体制造工艺或等离子体增强半导体制造工艺期间使用脉冲DC电压偏压基板的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 嵌入式 电极 支撑 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用材料公司，未经应用材料公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201880053387.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
