[发明专利]曝光装置在审

专利信息
申请号: 201880053913.6 申请日: 2018-08-28
公开(公告)号: CN111033388A 公开(公告)日: 2020-04-17
发明(设计)人: 米泽良 申请(专利权)人: 株式会社V技术
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G01B11/00;H01L21/68
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 柯瑞京
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 能够进行高精度的描绘。通过读取部,对描绘了包含被排列成二维状的多个十字位置的修正用基板图案的修正用基板,在初始状态、从所述初始状态旋转了大致90度、大致180度以及大致270度的状态的每一个状态下,进行读取,并根据该读取的结果来制作对描绘信息进行修正的修正表。此外,通过读取部读取模板的十字图案,将该读取的结果与修正表进行比较,来制作与模板的变形相关的模板修正表。并且,在描绘处理中,根据修正表来修正描绘信息,并且,一边通过驱动部使掩模保持部移动,一边从光照射部向模板照射光,根据由相机摄像的图像来取得光照射部的第一方向的位置偏移以及第二方向的位置偏移,根据第一方向的位置偏移以及第二方向的位置偏移、与所述模板修正表,来修正描绘信息,并且对向光照射部输出的信号的定时进行调整。
搜索关键词: 曝光 装置
【主权项】:
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