[发明专利]含有TiAlN纳米层膜的耐磨PVD工具涂层有效
| 申请号： | 201880055741.6 | 申请日： | 2018-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN111032915B | 公开（公告）日： | 2022-05-03 |
| 发明（设计）人： | 法伊特·席尔;沃尔夫冈·恩格哈特 | 申请（专利权）人： | 瓦尔特公开股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C28/04 | 分类号： | C23C28/04;C23C14/02;C23C14/06;C23C14/32;C23C30/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 陈海涛;王海川 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明涉及一种涂层切削工具及其制造方法，所述涂层切削工具由基材和硬质材料涂层构成，所述基材选自硬质合金、金属陶瓷、陶瓷、立方氮化硼(cBN)、多晶金刚石(PCD)或高速钢(HSS)，其中所述硬质材料涂层包含交替堆叠的(Ti,Al)N子层的(Ti,Al)N层堆叠体(L)，所述层堆叠体(L)具有如下特征：‑在所述(Ti,Al)N层堆叠体(L)内Ti:Al的总原子比在0.33:0.67至0.67:0.33的范围内；‑所述(Ti,Al)N层堆叠体(L)的总厚度在1μm至20μm的范围内；‑在所述交替堆叠的(Ti,Al)N子层的(Ti,Al)N层堆叠体(L)内每个单独的(Ti,Al)N子层具有在0.5nm至50nm范围内的厚度；‑在所述交替堆叠的(Ti,Al)N子层的(Ti,Al)N层堆叠体(L)内的每个单独的(Ti,Al)N子层在原子比Ti:Al方面与直接相邻的(Ti,Al)N子层不同；‑在垂直于所述基材表面的所述(Ti,Al)N层堆叠体(L)的厚度上，从排列为朝向所述基材的方向的所述(Ti,Al)N层堆叠体(L)的界面到排列为朝向所述涂层外表面的方向的所述(Ti,Al)N层堆叠体(L)的界面，Al的含量增加并且Ti的含量降低；‑在垂直于所述基材表面的所述(Ti,Al)N层堆叠体(L)的厚度上，从排列为朝向所述基材的方向的所述(Ti,Al)N层堆叠体(L)的界面到排列为朝向所述涂层外表面的方向的所述(Ti,Al)N层堆叠体(L)的界面，残余应力σ下降至少150MPa至最多900MPa的量，由此应用基于(200)反射的sin |
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| 搜索关键词： | 含有 tialn 纳米 耐磨 pvd 工具 涂层 | ||
【主权项】：
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