[发明专利]双晶片结合的气密性密封分子光谱单元在审

专利信息
申请号: 201880056757.9 申请日: 2018-09-07
公开(公告)号: CN111052388A 公开(公告)日: 2020-04-21
发明(设计)人: A·J·弗吕林;J·A·赫尔布斯摩;B·S·库克;S·J·雅各布斯 申请(专利权)人: 德克萨斯仪器股份有限公司
主分类号: H01L27/24 分类号: H01L27/24;H01Q17/00
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 李英
地址: 美国德*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种方法包括在衬底上形成(202、204、206)氧化物层和金属层。例如,这些层可以包括夹在氧化硅层之间的金属层。然后将非导电结构比如玻璃结合(208)到氧化物层中的一个。然后可以将天线图案化(210)在非导电结构上,并且可以在衬底中形成(212)腔。另一金属层沉积(214)在腔的表面上,并且将圈图案化(216)在金属层中以暴露氧化物层中的一个。在第二衬底上形成(220)另一金属层,并将这两个衬底结合在一起,从而密封该腔。
搜索关键词: 双晶 结合 气密性 密封 分子 光谱 单元
【主权项】:
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