[发明专利]用于光刻装置的光学部件的加热系统在审
| 申请号： | 201880057212.X | 申请日： | 2018-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN111051990A | 公开（公告）日： | 2020-04-21 |
| 发明（设计）人： | F·J·J·简森;M·A·范德凯克霍夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B7/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 董莘 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于加热光刻装置的光学部件的系统，该系统包括加热辐射源，该加热辐射源被配置为发射用于光学部件的加热的加热辐射，其中该系统被配置为将由光刻装置发射的加热辐射引导到光学部件上，加热辐射的一部分被光学部件吸收，并且加热辐射的另一部分被光学部件反射，并且其中系统配置为变化或改变由加热辐射源发射的加热辐射的性质，使得由光学部件反射的加热辐射的其他部分在光刻装置的操作期间是恒定的。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 装置 光学 部件 加热 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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