[发明专利]用于监测制造过程的方法在审
申请号: | 201880057242.0 | 申请日: | 2018-08-16 |
公开(公告)号: | CN111051991A | 公开(公告)日: | 2020-04-21 |
发明(设计)人: | I·S·巴尔布;M·博兹库尔特;M·范德沙尔;A·达科斯塔·埃萨弗劳 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 董莘 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 通过图案化步骤、物理处理步骤和化学处理步骤的组合,在衬底上形成多层产品结构。检查设备照射多个目标结构并捕获表示由每个目标结构散射的辐射的角度分布的光瞳图像(802)。目标结构具有相同的设计,但是被形成在不同衬底上和/或在衬底上的不同位置处。基于图像的比较(810),检查设备推断在所述不同位置之间的过程引起的堆叠变化的存在。在一个应用中,检查设备基于暗场图像(840)并结合先前确定的校准信息(842a,842b)分开测量制造过程的重叠性能(OV)。取决于从光瞳图像推断的堆叠变化,针对每个目标调整校准。 | ||
搜索关键词: | 用于 监测 制造 过程 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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