[发明专利]用于OLED像素沉积的金属材料沉积掩模及其制造方法

摘要

根据本发明的实施方式的用于OLED像素沉积的金属材料沉积掩模包括用于形成沉积图案的沉积区域和除沉积区域之外的非沉积区域。沉积区域包括沿纵向方向间隔开的多个有效部分和除有效部分之外的非有效部分。有效部分包括：形成在一个表面上的多个小面积孔；形成在与一个表面相反的一侧的背面上的多个大面积孔；连通小面积孔和大面积孔的通孔；以及位于多个通孔之间的岛状部分，其中，通孔的直径不大于33μm并且通孔中的两个相邻通孔的中心之间的距离不大于48μm，这对应于500PPI的分辨率，大面积孔相对于背面的倾斜角为40度至55度，非沉积区域的在纵向方向上的平均中心线平均表面粗糙度和非沉积区域的在宽度方向上的平均中心线平均表面粗糙度为0.1μm至0.3μm，非沉积区域的在纵向方向上的平均十点平均表面粗糙度(Rz)和非沉积区域的在宽度方向上的平均十点平均表面粗糙度为0.5μm至2.0μm，在纵向方向上的平均中心线平均表面粗糙度值相对于在宽度方向上的平均中心线平均表面粗糙度的偏差小于50％，并且在纵向方向上的平均十点平均表面粗糙度值相对于在宽度方向上的平均十点平均表面粗糙度的偏差小于50％。