[发明专利]光刻装置和方法在审
| 申请号： | 201880058360.3 | 申请日： | 2018-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN111095111A | 公开（公告）日： | 2020-05-01 |
| 发明（设计）人： | H·巴特勒;R·E·范利尤文 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 郑振 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种光刻装置，包括用于提供辐射束的照射系统，用于支撑图案形成装置的支撑结构，该图案形成装置用来在该辐射束的横截面向其施加以图案，用于保持衬底的衬底台，用于将图案化辐射束投影到该衬底的目标部分上的投影系统，和被配置为跨该辐射束的横截面改变该辐射束的波长的波长调制器。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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