[发明专利]用于测量光刻装置的焦点性能的方法和图案化设备与装置、器件制造方法有效
| 申请号： | 201880058754.9 | 申请日： | 2018-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN111051994B | 公开（公告）日： | 2022-06-10 |
| 发明（设计）人： | L·C·德温特;R·P·斯托尔克;F·斯塔尔斯;A·B·范奥斯滕;P·C·欣南;M·乔彻姆森;T·希尤维斯;E·范塞腾 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/24;G21K1/06 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 张昊 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种测量光刻装置的焦点性能的方法以及对应的图案化设备和光刻装置。该方法包括使用光刻装置印刷一个或多个第一印刷结构和第二印刷结构。第一印刷结构通过具有第一非远心度的照射印刷，而第二印刷结构通过具有不同于所述第一非远心度的第二非远心度的照射印刷。测量与所述衬底上的第一印刷结构和第二印刷结构之间的焦点相关位置偏移有关的焦点相关参数，并由此得到至少部分基于焦点相关参数的焦点性能的测量。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 测量 光刻 装置 焦点 性能 方法 图案 设备 器件 制造 | ||
【主权项】：
暂无信息
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