[发明专利]描绘数据生成方法、多带电粒子束描绘装置、图案检查装置、以及计算机可读取的记录介质有效
申请号: | 201880059474.X | 申请日: | 2018-08-03 |
公开(公告)号: | CN111095485B | 公开(公告)日: | 2023-10-20 |
发明(设计)人: | 安井健一;中山田宪昭 | 申请(专利权)人: | 纽富来科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/027 | 分类号: | H01L21/027;G03F7/20;H01J37/305 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 刘杰 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 根据具有曲线的图形所包含的设计数据来生成能够抑制数据量以及多带电粒子束描绘装置内的计算量的描绘数据。本实施方式涉及生成在多带电粒子束描绘装置中使用的描绘数据的方法。在该方法中,算出表现设计数据所包含的图形的曲线部的曲线、且是分别由多个控制点定义的一对曲线,将上述多个控制点中的与第1控制点在上述曲线的行进方向上相邻的第2控制点的位置用从上述第1控制点起的上述曲线的行进方向的位移以及与该行进方向正交的方向的位移表现,从而生成上述描绘数据。 | ||
搜索关键词: | 描绘 数据 生成 方法 带电 粒子束 装置 图案 检查 以及 计算机 读取 记录 介质 | ||
【主权项】:
暂无信息
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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