[发明专利]发光二极管装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201880060577.8 申请日: 2018-04-02
公开(公告)号: CN111133593B 公开(公告)日: 2023-08-25
发明(设计)人: 姜镇熙;姜智薰;赵晟佑 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/50;H01L33/06;H01L33/44;H01L33/10;H01L33/58;H01L33/62
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 周祺
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供了一种发光二极管装置的制造方法。所述方法包括:在衬底上形成发光二极管;形成围绕所述发光二极管的侧表面的防漏光层;蚀刻所述衬底中与所述发光二极管相对应的区域;以及在所述蚀刻的区域中将波长转换材料结合到所述发光二极管的下部,其中所述波长转换材料包括半导体层,所述半导体层包括量子阱层。
搜索关键词: 发光二极管 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201880060577.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top