[发明专利]空隙层、层叠体、空隙层的制造方法、光学构件及光学装置有效
| 申请号： | 201880063214.X | 申请日： | 2018-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN111164140B | 公开（公告）日： | 2022-06-28 |
| 发明（设计）人： | 服部大辅;岸敦史 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;G02B1/10 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王利波 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的目的在于，提供粘合剂或粘接剂不易向空隙浸透的空隙层。为了实现上述目的，本发明的空隙层的特征在于，其包含用具有表面取向性的化合物进行了表面改性的纳米粒子，并且空隙率为35体积％以上。 | ||
| 搜索关键词： | 空隙 层叠 制造 方法 光学 构件 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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