[发明专利]光致变装置在审

专利信息
申请号: 201880063835.8 申请日: 2018-10-01
公开(公告)号: CN111149209A 公开(公告)日: 2020-05-12
发明(设计)人: 布莱恩·阿斯匹灵;夏尼·纳瓦尔;珍·琼格曼;派翠克·图 申请(专利权)人: 弗莱克英纳宝有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L27/12
代理公司: 北京泰吉知识产权代理有限公司 11355 代理人: 张雅军;史瞳
地址: 英国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种技术包含:在第一导体图案上形成绝缘体;图案化所述绝缘体以形成绝缘体图案,其让第一导体图案在一或多个穿孔区域中暴露出来;在所述绝缘体图案上形成第二导体图案,其中第二导体图案于所述一或多个穿孔区域中接触所述第一导体图案;在所述一或多个穿孔区域中生成较平坦的形貌轮廓,而让所述第二导体图案在所述一或多个穿孔区域外侧暴露出来;在所述第二导体图案上形成半导体(24),用于所述第二导体图案与所述半导体间的电荷载子传输;及在所述半导体上沉积第三导体(26),用于所述第三导体(26)与所述半导体(24)间的电荷载子传输。
搜索关键词: 光致变 装置
【主权项】:
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