[发明专利]用于钨磨光应用的经表面处理的研磨剂颗粒有效
| 申请号： | 201880064240.4 | 申请日： | 2018-10-03 |
| 公开（公告）号： | CN111183195B | 公开（公告）日： | 2022-05-10 |
| 发明（设计）人： | 崔骥;黄禾琳;K.P.多克里;P.K.辛格;黄宏聪;简智贤 | 申请（专利权）人： | CMC材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09G1/04;C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邢岳;宋莉 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供化学机械抛光组合物，其包含(a)研磨剂，选自：氧化铝、氧化铈、氧化钛、氧化锆及其组合，其中该研磨剂表面包覆有包含磺酸单体单元及羧酸单体单元的组合、或磺酸单体单元及膦酸单体单元的组合的共聚物，(b)氧化剂，及(c)水，其中该抛光组合物具有约2至约5的pH。本发明进一步提供利用本发明化学机械抛光组合物化学机械抛光基板的方法。典型地，该基板包含钨或钴以及硅氧化物。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 磨光 应用 表面 处理 研磨剂 颗粒 | ||
【主权项】：
暂无信息
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