[发明专利]在光刻与应用中使用极端紫外线辐射的材料、元件及方法有效
| 申请号： | 201880064484.2 | 申请日： | 2018-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN111868570B | 公开（公告）日： | 2023-04-25 |
| 发明（设计）人： | 贾斯瓦尔·苏普里亚 | 申请（专利权）人： | 贾斯瓦尔·苏普里亚 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;G02B5/08;G03F1/24 |
| 代理公司： | 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 | 代理人： | 赵荣之 |
| 地址： | 美国加利福尼*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 描述了用于在紫外(UV)、极紫外(EUV)和/或软X射线波长下操作的设备和系统中，使用的新类型的材料和相关组件。本发明涉及增加EUV反射和透射材料的带宽和一般性能。这种材料结构和组合可用于制造诸如镜子，透镜或其他光学器件，面板，光源，光掩模，光致抗蚀剂或其他部件的部件，以用于诸如光刻，晶圆图案化，天文和空间应用，生物医学应用或其他应用中。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 应用 使用 极端 紫外线 辐射 材料 元件 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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