[发明专利]优化测量照射光斑相对于衬底上的目标的位置和/或尺寸的方法和相关设备有效
| 申请号： | 201880066410.2 | 申请日： | 2018-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN111213092B | 公开（公告）日： | 2022-05-17 |
| 发明（设计）人： | J·M·范博克斯梅尔;M·J·M·范达姆;K·范贝尔克;谢特·泰门·范德波斯特;J·H·A·范德里德 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 披露了一种在检查设备内优化测量照射光斑相对于衬底上的目标的位置和/或大小(以及因此聚焦)的方法。所述方法包括：针对所述照射光斑相对于所述目标的不同大小和/或位置，检测因照射所述目标而产生的来自至少所述目标的散射辐射；以及基于所检测到的散射辐射的特性，针对所述照射光斑相对于所述目标的不同大小和/或位置，优化所述测量照射光斑相对于所述目标的位置和/或大小。 | ||
| 搜索关键词： | 优化 测量 照射 光斑 相对于 衬底 目标 位置 尺寸 方法 相关 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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