[发明专利]曝光装置及曝光方法有效
| 申请号： | 201880070461.2 | 申请日： | 2018-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN111279270B | 公开（公告）日： | 2023-04-04 |
| 发明（设计）人： | 新井敏成;竹下琢郎 | 申请（专利权）人： | 株式会社V技术 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/68 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华;洪秀川 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光装置及曝光方法，该曝光装置将对形成于被曝光基板的已有基准图案进行拍摄后的基准图案数据与光掩模的基准位置部数据进行比较，检测宽度方向上光掩模的偏移量，计算出光掩模的暂定移动量，预先存储被曝光基板或光掩模的偏转状态变化的装置固有的偏转特性数据，并基于偏转特性数据，进行对光掩模移动量施加补正的控制。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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