[发明专利]膜在审
| 申请号： | 201880070918.X | 申请日： | 2018-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN111295413A | 公开（公告）日： | 2020-06-16 |
| 发明（设计）人： | 立道麻有子;硲武史;小松信之;樋口达也;横谷幸治;桧垣章夫;田中友启 | 申请（专利权）人： | 大金工业株式会社 |
| 主分类号： | C08J5/18 | 分类号： | C08J5/18;H01B3/30;H01B3/44;H01B17/56;H01G4/32;H05K1/03 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 孟伟青;褚瑶杨 |
| 地址： | 日本大阪*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种即使在高温下介质损耗角正切也小、并且绝缘击穿强度也优异的膜。一种膜，其特征在于，其在频率1kHz、160℃下的介质损耗角正切为0.02％以下，160℃下的绝缘击穿强度为400V/μm以上。 | ||
| 搜索关键词： | 膜 | ||
【主权项】：
暂无信息
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