[发明专利]用于校准辐射式密度测量装置的方法在审

专利信息
申请号: 201880074437.6 申请日: 2018-11-14
公开(公告)号: CN111542743A 公开(公告)日: 2020-08-14
发明(设计)人: 阿伦·尚卡尔·文卡泰什·耶尔;纳西斯·米歇尔·尼茨基厄加德乌;西蒙·魏登布鲁赫;约恩·朗热;塞巴斯蒂安·伊曼 申请(专利权)人: 恩德莱斯和豪瑟尔欧洲两合公司
主分类号: G01N9/24 分类号: G01N9/24
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 穆森;戚传江
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种用于校准辐射式装置的方法,该辐射式装置用于确定和/或监测位于容器(1)中的介质(6)的密度。该方法包括如下方法步骤:根据公式N/N0~I/I0=c~μBP1d,且应用当放射性辐射穿过空容器(1)时的半值厚度N/N0=0.5,确定空容器(1)的质量衰减系数μB,其中μB:质量衰减系数,ρ1:容器壁材料的密度,D:辐射传播的距离或容器(1)的内直径,I:测量的辐射强度,I0:发送的辐射强度,N:测定的计数率,N0:发送的辐射的计数率;当已知密度(ρ2)的校准介质位于容器(1)中时,基于放射性辐射在穿过容器(1)后的测量的强度或计数率来确定质量衰减系数(μM);基于两个质量衰减系数查明线性吸收系数(μ)与容器(1)的几何尺寸之间的关联性;计算校准曲线,该校准曲线示出介质的密度与穿过容器(1)后的测量的辐射强度或计数之间的关联性。
搜索关键词: 用于 校准 辐射 密度 测量 装置 方法
【主权项】:
暂无信息
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