[发明专利]激光解吸电离法和质谱法在审
| 申请号： | 201880076606.X | 申请日： | 2018-10-05 |
| 公开（公告）号： | CN111406211A | 公开（公告）日： | 2020-07-10 |
| 发明（设计）人： | 内藤康秀;大村孝幸;小谷政弘 | 申请（专利权）人： | 浜松光子学株式会社 |
| 主分类号： | G01N27/62 | 分类号： | G01N27/62;G01N27/64;H01J49/04;H01J49/16 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 杨琦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 激光解吸电离法包括：准备包括形成有在彼此相对的第1表面(2a)和第2表面(2b)开口的多个贯通孔的基板(2)和至少设置于第1表面的导电层的试样支承体(1)的第1工序；向多个贯通孔导入试样(S)和在真空中具有不易挥发性的溶剂(81)的第2工序；和通过向导电层施加电压且对第1表面照射激光而使试样的成分被电离的第3工序。 | ||
| 搜索关键词： | 激光 解吸 电离 质谱法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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