[发明专利]研磨液、研磨液套剂、研磨方法以及缺陷抑制方法在审

专利信息
申请号: 201880077769.X 申请日: 2018-10-01
公开(公告)号: CN111433311A 公开(公告)日: 2020-07-17
发明(设计)人: 高桥寿登;花野真之;泷泽寿夫 申请(专利权)人: 日立化成株式会社
主分类号: C09K3/14 分类号: C09K3/14;H01L21/304
代理公司: 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 代理人: 杜娟
地址: 日本国东京都千*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种研磨液,含有:包含从由氧化铈和氧化硅构成的群中选出的至少一种的磨粒、含氮化合物和水,所述含氮化合物含有从由以下化合物构成的群中选出的至少一种:(I)具有环内含1个氮原子的芳香环和羟基的化合物、(II)具有环内含1个氮原子的芳香环和含氮原子的官能团的化合物、(III)具有环内含2个氮原子的6元环的化合物、(IV)具有苯环和环内含氮原子的环的化合物,以及(V)具有结合有2个以上含氮原子的官能团的苯环。
搜索关键词: 研磨 液套剂 方法 以及 缺陷 抑制
【主权项】:
暂无信息
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