[发明专利]研磨液、研磨液套剂、研磨方法以及缺陷抑制方法在审
申请号: | 201880077769.X | 申请日: | 2018-10-01 |
公开(公告)号: | CN111433311A | 公开(公告)日: | 2020-07-17 |
发明(设计)人: | 高桥寿登;花野真之;泷泽寿夫 | 申请(专利权)人: | 日立化成株式会社 |
主分类号: | C09K3/14 | 分类号: | C09K3/14;H01L21/304 |
代理公司: | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人: | 杜娟 |
地址: | 日本国东京都千*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种研磨液,含有:包含从由氧化铈和氧化硅构成的群中选出的至少一种的磨粒、含氮化合物和水,所述含氮化合物含有从由以下化合物构成的群中选出的至少一种:(I)具有环内含1个氮原子的芳香环和羟基的化合物、(II)具有环内含1个氮原子的芳香环和含氮原子的官能团的化合物、(III)具有环内含2个氮原子的6元环的化合物、(IV)具有苯环和环内含氮原子的环的化合物,以及(V)具有结合有2个以上含氮原子的官能团的苯环。 | ||
搜索关键词: | 研磨 液套剂 方法 以及 缺陷 抑制 | ||
【主权项】:
暂无信息
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