[发明专利]真空沉积设备和用于涂覆基底的方法在审
| 申请号： | 201880080355.2 | 申请日： | 2018-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN111479950A | 公开（公告）日： | 2020-07-31 |
| 发明（设计）人： | 埃里奇·西尔伯贝格;布鲁诺·施米茨;塞尔焦·帕切;雷米·邦内曼;迪迪埃·马尔内夫 | 申请（专利权）人： | 安赛乐米塔尔公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京允天律师事务所 11697 | 代理人： | 董文国 |
| 地址： | 卢森堡*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及真空沉积设备，所述真空沉积设备用于在移动的基底上连续沉积由金属或金属合金形成的涂层，所述设备包括真空室和用于使基底沿给定路径移动通过真空室的装置，其中真空室还包括：‑中央壳体，所述中央壳体包括蒸气喷射涂覆机以及位于中央壳体的两个相对侧上的基底入口和基底出口，中央壳体的内壁适合于被加热至高于金属或金属合金蒸气的冷凝温度的温度；‑蒸气捕集器，所述蒸气捕集器位于中央壳体的基底出口处呈外部壳体的形式，蒸气捕集器的内壁适合于保持在低于金属或金属合金蒸气的冷凝温度的温度下。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 沉积 设备 用于 基底 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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