[发明专利]晶片表面曲率确定系统有效
| 申请号： | 201880082769.9 | 申请日： | 2018-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN111556954B | 公开（公告）日： | 2022-06-03 |
| 发明（设计）人： | 罗兰·皮舍;斯蒂芬·迪格鲁特;乔夫·德卢伊 | 申请（专利权）人： | 埃皮根股份有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/255 | 分类号： | G01B11/255;H01L21/66;G01B11/24;G01B11/30;G01N21/95;G01N21/956 |
| 代理公司： | 成都超凡明远知识产权代理有限公司 51258 | 代理人： | 王晖;吴莎 |
| 地址： | 比利时*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于对晶片(2)的表面(20)的曲率(200)进行原位测量的系统(1)，所述系统(1)包括：多波长光源模块(101)，适于发射包括多个波长(301；302；303)的入射光(3)；光学装置(104)，被配置为将所述入射光(3)组合成单个光束(5)，并朝向晶片(2)的表面(20)引导所述单个光束(5)，使得所述单个光束(5)在所述表面(20)上的单个测量光斑(202)处撞击表面(20)；以及曲率确定单元(103)，被配置为根据与在所述单个测量光斑(202)处在所述表面(20)上被反射的所述单个光束(5)相对应的反射光(4)，确定所述晶片(2)的所述表面(20)的曲率(200)。 | ||
| 搜索关键词： | 晶片 表面 曲率 确定 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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