[发明专利]用于确定衬底上的结构的感兴趣的特性的量测设备与方法在审
| 申请号： | 201880084670.2 | 申请日： | 2018-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN111542783A | 公开（公告）日： | 2020-08-14 |
| 发明（设计）人： | G·J·H·布鲁斯阿德;P·W·斯摩奥伦堡;T·J·克嫩;N·基鹏;P·D·范福尔斯特;S·B·罗博尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01N21/47;G01J3/02;G01J3/36;G01N21/95;G01N21/956;G03F9/00;G01J3/28 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 闫红 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于确定衬底上的结构的感兴趣的特性的量测设备，所述结构具有衍射性质，所述设备包括：聚焦光学器件，所述聚焦光学器件被配置成将包括多个波长的照射辐射聚焦至所述结构上；第一检测器，所述第一检测器被配置成检测已从所述结构被衍射的照射辐射的至少一部分；和附加光学器件，所述附加光学器件被配置成在所述第一检测器的至少一部分上产生已从所述结构衍射的照射辐射的不同波长的依赖于波长的空间分布，其中所述第一检测器被布置成至少检测已从所述结构衍射的照射辐射的非零衍射阶。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 确定 衬底 结构 感兴趣 特性 设备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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