[发明专利]自参考和自校准干涉图案叠加测量有效
| 申请号： | 201880085680.8 | 申请日： | 2018-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN111656281B | 公开（公告）日： | 2022-04-08 |
| 发明（设计）人： | 杨东岳;戴鑫托;朴东锡;唐明浩;姆德·莫塔西·贝拉;帕凡·库玛尔·查特哈马佩塔·史瑞帕达拉;C·W·王 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 江葳 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 两对对准标靶(一对对齐，另一对错位一偏置距离)形成在不同的掩模上以产生第一对共轭干涉图案。另一对对准标靶也形成于掩模上以产生相较于该第一对倒置的第二对共轭干涉团。当使用该掩模所形成的图案被覆盖时，两对共轭干涉图案中的该第一干涉图案和该第二干涉图案的暗区与亮区的失准被确定。计算一放大系数(该干涉图案失准对该标靶失准的放大系数)，以作为该干涉图案对中的相对暗区和相对亮区的失准的差值相对于两倍该偏置距离的比率。该干涉图案失准除以该放大系数以产生一自参考且自校准标靶失准量并予以输出。 | ||
| 搜索关键词： | 参考 校准 干涉 图案 叠加 测量 | ||
【主权项】：
暂无信息
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